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          臥式擴散爐是做什么的?

          編輯:青島育豪微電子設備有限公司  時間:2020-10-21

                  臥式擴散爐的購買和維護離子注入設備價格昂貴,并且適合于特征圖形尺寸較小且電路器件間距較小的應用,并且可以接受低成本且受熱擴散限制的電子電子產品,集成電路和晶體硅。太陽能電池制造業主要使用臥式擴散爐進行擴散摻雜。臥式擴散爐是這些子行業中摻雜工藝的核心設備,目的是改變和控制晶片中雜質的類型,濃度和分布,從而建立具有不同電特性的區域。臥式擴散爐主要由加熱爐體,石英管,氣體回路系統和進料裝置組成。

                  為了確保反應管內的壓力平衡,臥式擴散爐的反應室裝有壓力差傳感器,用于檢測爐內外壓力差,并配有專用的控制裝置和控制裝置。用于實時控制的氣體流量計。內外壓差為固定值,可根據工藝要求改變壓差設定值,從而提高了工藝的均勻性和工藝可擴展性,正壓在5Pa至70Pa之間可調,精度為± 3Pa。由于引入了爐管壓力平衡系統,實現了負反饋壓力調節,這有助于穩定反應室內的空氣流動。在獲得平方電阻的應用中,該爐管壓力平衡系統可以確保臥式擴散爐在40?90 Ohm / sq范圍內可以保證5%,4%,4%的平方電阻的均勻性。

                  臥式擴散爐隨著半導體技術的不斷發展,半導體產業逐漸細分。在細分行業中,例如集成電路,功率半導體,光學信息設備和化合物半導體,成熟可靠的NAURA臥式擴散爐還可用于干氧氧化,濕氧氧化,氫氧合成氧化,擴散,退火/推進,合金化和其他過程實際上是一臺具備所有功能的機器。

                  高性能臥式擴散爐的加熱爐主體采用五段式溫度控制,每段均配有獨立的晶閘管模塊,以實現精確的電氣控制。該溫度控制系統在爐內裝有高精度熱電偶,在爐管壁上裝有熱電偶。全部采用進口溫度控制模塊,控制精度高于0.1%。高端擴散爐制造商甚至使用控制精度為0.05%的溫度控制模塊,并通過工業計算機收集和設置溫度。


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