產品詳情:

立式真空擴散爐
本設備主要應用于集成電路、分立器件、電力電子、光電子等行業硅片的擴散、燒結、以及熱處理退火等在真空狀態下的工藝操作。
 立式、環壁加熱、鐘罩升降式、絲杠自動上下升降送料,真空室內配有工件支架
 功能特點:
 ★全英文windows操作界面,可編輯參數,操作方便。 
 ★可保存多條工藝曲線,每條曲線可設置多步。 
 ★工藝曲線的自動運行控制功能。 
 ★自動運行中可暫停/繼續運行功能。 
 ★工藝中可強制跳到下一個工藝步運行功能。  
 ★智能升降溫斜率制功能。 
 ★PID參數自整定功能。  
 ★系統故障的檢測與報警功能。 
 ★停電后斷點繼續運行功能。 
 ★工藝氣體的程序控制功能(電磁閥/質量流量控制器) 
 ★實時監測真空度數據 
 ★可根據用戶的特殊要求增減或開發相應的功能。
 
 三.設備參數類型:

方式:

立式 

可配工藝管數量:

1管系統

凈化臺潔凈度:

100級(10000級廠房) 

氣體流量控制: 

均用MFC控制 

送取片方式: 

上下自動升降,采用Sic漿推拉舟 

使用類型: 

4-12寸爐管 

工作溫度: 

600~1290℃ 

爐管有效口徑:

¢180-500mm

總功率: 

18-55KVA/管   保溫功率:8-25KVA/管 

三相五線制: 

380V±10%,50Hz±10%,次級線不小于35平方高溫線 

報警:

具有超溫報警,斷偶報警,氣體互鎖,氣體緩啟動等功能 

恒溫區長度及段數: 

400-800mm(3-5段控溫) 

控溫精度: 

±0.5℃(≧1000℃) 

單點溫度穩定性: 

±1℃/12h

控溫方式:

工控機 + PLC控制 + 觸摸屏 

熱偶類型:

熱電偶采用S/R型,每管Spike 4-10支熱偶 

最大可控升溫范圍: 

(500~1300℃)0--15℃/min

最大可控降溫范圍: 

(1300~500℃)0--10℃/min

工藝氣體: 

N2/H2/Ar/O2(可根據工藝要求選配) 

真空機組:

采用直連機械泵+羅茨泵(可根據工藝要求選配) 

冷卻水:

壓力0.2—0.4MPa

設備總外形尺寸: 

根據設備配置不同,尺寸有所不同 

 


熱門標簽:立式真空擴散爐
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