一、產品用途及描述:
主要用于厚膜基片、片式器件燒銀、LTCC等器件的高溫燒結等相關熱處理的工藝生產。設備主要由加熱系統、冷卻系統、電器控制系統、傳動系統、機架等部分組成。
二、指標參數:
1、額定溫度:1050℃
2、使用氣氛:空氣
3、加熱元件:PEC陶瓷仟維加熱器
4、溫區個數:7-11
5、爐膛高度:50mm-100mm
6、溫區長度:450mm(或隨機設計)
7、網帶寬度:按使用要求設計
磁性材料真空燒結爐
程控擴散爐
砷化鎵多晶合成爐
石墨工裝治具
鏈式烘干爐
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